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納米壓印光刻系統(tǒng)

簡要描述：納米壓印支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并可選擇背面對準。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻（NIL）。

  • 產(chǎn)品型號：EVG610
  • 廠商性質(zhì)：代理商
  • 產(chǎn)品資料：
  • 更新時間：2024-09-20
  • 訪  問  量： 7015

詳細介紹

該設備支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并可選擇背面對準。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻（NIL）。

EVG610提供快速的處理和重新安裝工具，以改變用戶需求，光刻和NIL之間的轉(zhuǎn)換時間僅為幾分鐘。其先進的多用戶概念可以適應從初學者到專家級別的所有需求，因此使其成為大學和研發(fā)應用程序的理想選擇。

對于壓印工藝，EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到直徑150毫米不等。納米技術應用的配置除了可編程的高和低接觸力外，還可以包括印章的釋放機制。EV Group專有的卡盤設計可提供均勻的接觸力，以實現(xiàn)高產(chǎn)量的壓印，該卡盤設計既支持軟印章也支持硬印章。

納米壓印機技術數(shù)據(jù)：
晶圓直徑 （基板尺寸）
標準光刻 碎片蕞大150毫米
柔軟的UV-NIL 蕞大150毫米的碎片
解析度 ≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程 柔軟的UV-NIL
曝光源 汞光源或紫外線LED光源
自動分離功能 不支持
工作印章制作 外部
 
納米壓印機特征：
1) 頂部和底部對準能力
2) 高精度對準臺
3) 自動楔形誤差補償機制
4) 電動和配方控制的曝光間隙
5) 支持新的UV-LED技術
6) 蕞小化系統(tǒng)占地面積和設施要求
7) 分步流程指導
8) 遠程技術支持
9) 多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和配方，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）
10) 敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換
11) 臺式或帶防震花崗巖臺的單機版

納米壓印機主要應用：
具有紫外線納米壓印功能的通用研發(fā)掩膜對準系統(tǒng)，支持尺寸從碎片到蕞大150毫米。
附加功能：
1) 鍵對準
2) 紅外對中
3) 納米壓印光刻
4) 微接觸印刷
納米壓印工藝結(jié)果：

圖1  微鏡頭

圖2  納米壓印結(jié)果（100納米分辨率）


 

 

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